본 연구실은 Macro / Micro scale에서의 에서의 열 및 유동 현상을 제어하여 Microelectromechanical 등의 시스템 및 각종 장비 내의 입자 거동 및 압력 특성, 열처리로 용기의 열전달 및 유동 그리고 반도체 제조장비 분야의 연구개발을 전산유체역학을 이용한 컴퓨터 시뮬레이션 방법을 기반으로 연구 수행 중에 있다. 또한 시뮬레이션에만 의존하는 것이 아니라, 실험을 통하여 신뢰성 있는 해석기법 또한 연구 중이다.
 

 

 - 반도체 저온 열처리로 내부의 열 유동을 수치해석을 통해 측면 히터에서 발생된 열이 내부로 전달되는 특성을 파악하여 저온 제어 특성연구
- 저온 열처리로 내에서 사용 가능한 웨이퍼의 마이트로 단위의 온도 측정 시스템 구축
- 반도체용 기판의 고효율 식각 공정 및 시스템 개발을 위하여 약액을 분사하는 노즐의 유동해석과 건조부의 온도 및 Air knife의 유동해석
- CMP 장비의 슬러리 도포 분포의 및 세정 노즐의 균일한 속도 분포의 최적화에 관한 연구
- SMT 마운터의 각 파트별 열전달 해석 및 열응력 계산, 장비 내 공기의 온도 영향 검토
- 리튬 이온 배터리의 1cell 과 packaging 상태에서의 배터리 표면 온도 해석 및 pack 내부의 열유동 해석
- Etcher 등과 같은 다양한 반도체 장비 내부의 가스 MFC를 제어할 수 있는 스마트 그리드 전력 시스템 구축
- 반도체 기판의 텍스쳐링을 위한 bath 장비의 약액 유동해석
- AlGalnN 막 증착용 샤워헤드의 내부 gas유동 해석을 통하여 최적의 설계 구조 연구
 

이수연
CFD를 이용한 CMP 장비의 효과적인 공정을 위한 수치해석적 연구
반도체 디스플레이 기술학회지 저널, 2011, Vol. 0, No. 0, pp. 0~ 0

김준영
A Research on Drying Performance of Vertical Type Equipment for PCB Wet Process
-ASME congress, 2012, Vol. 0, No. 0, pp. 0~ 0

김준영
수직형 식각 장비의 노즐 분사 시스템에 관한 연구
-반도체 디스플레이 기술학회지 저널, 2011, Vol. 0, No. 0, pp. 0~ 0